工作原理
1. 水進入純(chun)化(hua)系統，主(zhu)要部(bu)(bu)(bu)分(fen)流入樹脂 / 膜內(nei)部(bu)(bu)(bu)，而另一部(bu)(bu)(bu)分(fen)沿模板外(wai)側流動，以洗去透出膜外(wai)的(de)離(li)子。
2. 樹脂(zhi)截留(liu)水中的溶存離子。
3. 被截留的離子在電極作用下(xia)，陰離子向(xiang)(xiang)正極方(fang)向(xiang)(xiang)運動，陽(yang)離子向(xiang)(xiang)負極方(fang)向(xiang)(xiang)運動。
4. 陽離(li)子(zi)透過陽離(li)子(zi)膜(mo)，排(pai)出樹脂 / 膜(mo)之外。
5. 陰(yin)離(li)子透過陰(yin)離(li)子膜(mo)，排出樹(shu)脂 / 膜(mo)之外。
6. 濃縮(suo)了的離子從廢水流路中(zhong)排出(chu)。
7. 去(qu)離子(zi)水(shui)從樹脂 / 膜內(nei)流(liu)出。
設備特點
1: 整(zheng)體化(hua)程度高(gao) , 易于擴(kuo)展 , 增(zeng)加(jia)膜數量即可增(zeng)加(jia)處理(li)量。
2: 自(zi)動(dong)化程度高 , 遇故障(zhang)立即自(zi)停(ting) , 具有自(zi)動(dong)保護(hu)功能。
3: 膜組件為(wei)復(fu)合膜卷制而(er)成 , 表現出更高的溶質分離率和透過(guo)速率。
4: 能耗(hao)低 , 水利用(yong)率高 , 運行(xing)成本低。
5: 結構合理(li) , 占地面積少。
6: 先(xian)進的膜(mo)保護系(xi)統 , 在(zai)設備(bei)關機 , 淡化(hua)水可自(zi)動將膜(mo)面污(wu)染物(wu)沖洗干凈 , 延長膜(mo)壽命。
7 系(xi)統無易損部件 , 無須大量維修 , 運(yun)行長(chang)期有效。
8: 設備設計有膜清洗(xi)系統(tong)用阻垢系統(tong)。
工藝流程
醫藥行業制(zhi)備超水的工藝大致(zhi)分(fen)成以下(xia)幾種：
1、原(yuan)水(shui)→原(yuan)水(shui)加壓泵(beng)→多介質過(guo)濾器(qi)(qi)→活(huo)性(xing)炭過(guo)濾器(qi)(qi)→軟(ruan)水(shui)器(qi)(qi)→精密過(guo)濾器(qi)(qi)→一(yi)級反(fan)滲透 設備→中間水(shui)箱→中間水(shui)泵(beng)→離(li)子交換器(qi)(qi)→純化水(shui)箱→純水(shui)泵(beng)→紫外線殺菌器(qi)(qi)→微孔(kong)過(guo)濾器(qi)(qi)→用水(shui)點
2、原水(shui)(shui)→原水(shui)(shui)加(jia)壓(ya)泵(beng)→多介(jie)質(zhi)過濾器(qi)→活性炭過濾器(qi)→軟水(shui)(shui)器(qi)→精(jing)密過濾器(qi)→第一級反滲透 →PH調節(jie)→中間水(shui)(shui)箱→第二級反滲透(反滲透膜表面(mian)帶正電荷)→純化水(shui)(shui)箱→純水(shui)(shui)泵(beng)→紫外線殺菌器(qi)→ 微孔過濾器(qi)→用水(shui)(shui)點
3、原水(shui)→原水(shui)加壓泵→多(duo)介(jie)質(zhi)過濾器(qi)(qi)→活性(xing)炭過濾器(qi)(qi)→軟水(shui)器(qi)(qi)→精密過濾器(qi)(qi)→一級反滲透機→中(zhong)間水(shui)箱→中(zhong)間水(shui)泵→EDI系統→純化水(shui)箱→純水(shui)泵→紫外線殺菌器(qi)(qi)→微孔過濾器(qi)(qi)→用水(shui)點
主(zhu)要用途(tu)
1、超(chao)純材料(liao)和(he)超(chao)純試劑的生產(chan)和(he)清洗。
2、電子(zi)產品的生產和(he)清洗。
3、電池產品的生產。
4、半導體產品的生(sheng)產和清洗(xi)。
5、電路板的生產和(he)清洗。
6、其他(ta)高(gao)科技(ji)精細(xi)產品的(de)生產。
水質(zhi)標準
出水(shui)水(shui)質
電阻(zu)率>15MΩ.cm
行業標準
超(chao)純(chun)水水質(zhi)分為五個(ge)行業標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以(yi)區分不(bu)同水質(zhi)。
制取(qu)要求
新興的(de)(de)光電(dian)材料生產、加工、清(qing)洗；LCD液晶顯(xian)示屏(ping)(ping)、PDP等離子顯(xian)示屏(ping)(ping)、高(gao)品質燈(deng)管顯(xian)像(xiang)管、微電(dian)子工業(ye)、FPC/PCB線路(lu)板(ban)、電(dian)路(lu)板(ban)、大(da)規模、超(chao)大(da)規模集成電(dian)路(lu)需用大(da)量的(de)(de)高(gao)純(chun)水(shui)(shui)、超(chao)純(chun)水(shui)(shui)清(qing)洗半成品、成品。集成電(dian)路(lu)的(de)(de)集成度越高(gao)，對水(shui)(shui)質的(de)(de)要(yao)求也(ye)越高(gao)，這也(ye)對超(chao)純(chun)水(shui)(shui)處理工藝及產品的(de)(de)簡(jian)易性(xing)、自動(dong)化(hua)程度、生產的(de)(de)連(lian)續性(xing)、可持續性(xing)等提出了(le)更加嚴格(ge)的(de)(de)要(yao)求。
